Samsung memperkenalkan tinggi NA EUV untuk meningkatkan daya saing di pasaran 2nm

Samsung Electronics dilaporkan memperkenalkan peralatan litografi semikonduktor generasi akan datang, mesin litografi ultraviolet yang tinggi (NA) yang melampau (EUV) mesin litografi (tinggi NA EUV) -exe: 5000-pada kemudahan Hwaseongnya di Korea Selatan pada awal bulan Mac.High NA EUV adalah penting untuk pembuatan litar ultra-halus di bawah 2nm, memberi isyarat usaha Samsung untuk meningkatkan teknologi proses sub-2NMnya.

Laporan ini menyoroti bahawa peralatan canggih ini dilengkapi dengan tag harga yang tinggi sebanyak 500 bilion KRW (kira-kira 2.501 bilion RMB) dan secara eksklusif dibekalkan oleh ASML, menjadikannya salah satu alat yang paling dicari dalam industri semikonduktor.

Sejak tahun lepas, Samsung telah menilai penggunaan NA EUV yang tinggi dalam proses pembuatannya dan dilaporkan merancang untuk menggunakannya untuk nod semikonduktor generasi akan datang di bawah 2nm.

NA EUV Tinggi dianggap sebagai pemboleh kritikal untuk proses penemuan sub-2nm lanjutan.Syarikat-syarikat semikonduktor terkemuka di seluruh dunia berlumba untuk mengamalkan teknologi canggih ini.Intel telah menandatangani kontrak untuk membeli enam mesin ini, dengan yang pertama disampaikan pada tahun 2023. Sementara itu, TSMC baru -baru ini memperkenalkan peralatan ke dalam barisan pengeluarannya untuk mempercepatkan penggunaan teknologi proses 2nmnya.

Menurut Trendforce, bahagian pasaran Global Foundry TSMC pada Q4 2023 mencapai 67.1%, naik 2.4 mata peratusan dari Q3 2023. Sebaliknya, Samsung telah berjuang di pasaran, dengan sahamnya menjatuhkan 1 mata peratusan dari 9.1% hingga 8.1% dalam tempoh yang sama.